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| Gas di carburante | CH4, C2H2, CO, |
| Gas di saldatura | Ar-He, Ar-H2, Ar-O2, Ar-CO2, CO2, O2, N2, H2, Ar-He-CO2, Ar-He-N2, |
| Gasi liquidi | C2H4, SO2, CO2, NO2, N2O, C3F6, H2S, HCl, BCl3, BF3, SF6 |
| Gas di calibrazione | CH4-N2, NO-N2, H2S-N2, CO2-N2, SF6-N2, SiH4-He |
| Gasi Doping | AsH3, PH3, GeH4, B2H6, AsCl3, AsF3, H2S, BF3, BCl3, |
| A crescita di cristalli | SiH4, SiHCl3, SiCl4, B2H6, BCl3, AsH3, PH3, GeH4, Ar, He, H2 |
| Incisione in fase di gas | Cl2, HCl, HF, HBr, SF6 |
| Incisione al plasma | SiF4, CF4, C3F8, CHF3, C2F6, NF3, SF6, BCl3, N2, Ar, He |
| Incisione à fascio di ioni | C3F8, CHF3, CClF3, CF4 |
| Implantazione di ioni | AsF3, PF3, PH3, BF3, BCl3, SiF4, SF6, N2, H2 |
| Gasi CVD | SiH4, SiH2Cl2, SiCl4, NH3, NO, O2 |
| Gas diluenti | N2, Ar, He, H2, CO2, N2O, O2 |
| Gasi Doping | SiH4, SiCl4, Si2H6, HCl, PH3, AsH3, B2H6, N2, Ar, He, H2 |
